请教icp提升精度的原理和程序设计流程
你好,关于icp对对位精度的原理和程序流程能否简单描述一下?谢谢。
流程就是先提图像中的subpixel边缘,然后每个模板点找最近点,迭代多次
你好,github打不开,就在邮箱给你发信息请教。我在用fusion+icp分支测试物料定位时,匹配分数设置为90,会出现检测出来的角度会有180度的偏差,我猜测是物料对称比较强导致的.附件给出原始图,和训练图,麻烦分析一下,谢谢。
------------------ 原始邮件 ------------------ 发件人: "meiqua/shape_based_matching" <[email protected]>; 发送时间: 2021年2月26日(星期五) 凌晨0:03 收件人: "meiqua/shape_based_matching"<[email protected]>; 抄送: "正在输入........"<[email protected]>;"Author"<[email protected]>; 主题: Re: [meiqua/shape_based_matching] 请教icp提升精度的原理和程序设计流程 (#132)
流程就是先提图像中的subpixel边缘,然后每个模板点找最近点,迭代多次
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附件看不到
不好意思哈。在QQ邮箱上上传可能没成功。

检测出来的角度会偏差180度,图标记位置翻转180度。
可以理解,全局轮廓确实区别不出来那一小块。可以定位出来后用个小模板再局部区分一下